????一、直接涂布（壓榨涂布）
????這種涂布基材一般為無紡布類基材，膠液存于兩滾筒之間的間隙內(nèi)，膠液為易沉淀的物質(zhì)，如：三氧化二鋁、硬質(zhì)碳酸鈣等，為保證膠液均勻，需一套攪拌機(jī)構(gòu)，攪拌膠液均勻。涂布時(shí)，基材從左端的膠輥進(jìn)入侵膠槽，膠輥為導(dǎo)熱油加熱的主動牽引輥，膠輥將布基內(nèi)的多余水分蒸發(fā)，以便吸收膠液。侵膠后通過右端的鋼輥擠壓，將多余的膠液擠出，控制涂布量。鋼輥也為熱輥，將基材烘干。該方法對膠液的黏度要求不高，涂布膠量比較大，但兩輥桶的溫度控制要精確。產(chǎn)品如：百潔布等。
????二、轉(zhuǎn)移涂布（輥涂法）
????A：網(wǎng)紋輥直接涂布
????這種涂布設(shè)備主要采用網(wǎng)紋輥來進(jìn)行上膠涂布。其涂布均勻，而且涂布量比較準(zhǔn)確。是目前涂布領(lǐng)域應(yīng)用最廣泛的方法。涂布量主要與網(wǎng)紋輥的凹眼深度和膠水種類的粘度有關(guān)。網(wǎng)紋輥的凹眼深度越深，膠從凹眼中轉(zhuǎn)移到基材上去的量相應(yīng)也越多；反之，網(wǎng)紋輥網(wǎng)凹眼深度越淺，轉(zhuǎn)移到基材上的量也相應(yīng)減小。與黏度也有很大關(guān)系。膠水黏度太大和太小都不利于膠的正常轉(zhuǎn)移。膠水黏度大易轉(zhuǎn)移，太稀則易流淌，使上膠不均勻，易產(chǎn)生縱向或橫向流水紋。所以，一旦涂布網(wǎng)紋輥和膠的種類定下來后，就很難調(diào)節(jié)其涂布量，這也是網(wǎng)紋涂布輥的應(yīng)用受到限制的主要原因。?
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?????B：逆向吻涂
????逆向吻涂的涂布量可通過調(diào)節(jié)網(wǎng)紋輥與牽引壓輥之間的間隙、基材與網(wǎng)紋輥之間的相對速度來進(jìn)行控制。網(wǎng)紋輥與牽引壓輥之間的間隙約為料膜厚度的80%，網(wǎng)紋輥與基材之間的相對速度之比稱為擦速比，一般為2：1。該涂布方式可用于水性涂料、乙烯樹脂等膠液。
????C：微凹輥涂布
????微凹輥涂布是隨著平面顯示器尤其是液晶顯示器(LCD)工業(yè)的飛速發(fā)展的一種精密涂布模式。微凹輥直徑φ20mm（涂布幅寬1300mm），在微凹涂布中，由于輥徑小，沒有背壓輥、所以進(jìn)入和離開涂布區(qū)的液橋量很小，對涂布的表面質(zhì)量比較高。在每一個(gè)液晶顯示器中，例如光學(xué)薄膜防反射、防眩光和硬涂層保護(hù)薄膜等，這些功能薄膜都需要非常高的涂層均勻性,譬如細(xì)豎道、豎條道、肋骨棱、空氣夾帶等等這些涂層缺陷是不允許的,并且涂層濕厚度必須在幾個(gè)微米之間,干厚在幾百個(gè)納米之間。現(xiàn)在能夠生產(chǎn)出涂層厚度在微米大小的功能薄膜的常規(guī)方法，一般采用微凹版涂布方法。
????D：光輥涂布
????1、光輥三輥涂布?
????這種上膠涂布通常采用兩輥或三輥轉(zhuǎn)移涂布。調(diào)整其上膠輥和涂布輥之間的間隙或轉(zhuǎn)速速差，就可以調(diào)整涂布量的大小。要求上膠輥、涂布輥的加工精度和裝配精度高。由于這種涂布機(jī)主要采用高精度的光輥進(jìn)行上膠涂布，涂布效果較好，涂布量大小除了通過上膠輥和涂布輥之間的間隙來調(diào)整，還可通過各輥之間的速度差來靈活控制，涂布精度高。一般涂布量為3-6g/m。目前在涂布復(fù)合設(shè)備上的應(yīng)用也最廣。如煙包的內(nèi)襯紙生產(chǎn)，用濕法復(fù)合工藝完成，涂布頭就采用此結(jié)構(gòu)。
????2、光輥兩輥涂布
????如果下部兩輥體加熱可用于涂蠟或熱熔膠的涂布?如：口香糖的包裝紙就采用此結(jié)構(gòu)進(jìn)行紙張的涂蠟（食品蠟）進(jìn)行防潮處理、其它調(diào)節(jié)功能與光輥三輥涂布類似。
????三、刮刀涂布
????A：逗號刮刀涂布
????適應(yīng)范圍廣，最適于較高黏度膠液的涂布，范圍：1000-30000cps黏度的膠液，涂膠厚度：20μm以上。此類刮刀常采用強(qiáng)度、硬度較好的圓鋼制成刀口。刮膠時(shí)該刮刀固定不轉(zhuǎn)動，這種刮刀的強(qiáng)度，硬度高，刃口直線度誤差小，可以采用氣動和微調(diào)機(jī)構(gòu)來調(diào)節(jié)和控制刮刀位置，涂布量控制和刮膠精度高，使用也極為方便。由于其刮膠很均勻，所以適用于光輥上膠涂布的精確刮膠，如：涂布紙張的生產(chǎn)，特殊薄膜的生產(chǎn)。
????B：刮棒涂布
????刮棒涂布多用于有機(jī)溶劑涂布，二次涂布時(shí)的底涂。其主要結(jié)構(gòu)由一個(gè)帶料輥和一個(gè)刮棒組成?；耐ㄟ^帶料輥時(shí)，由帶料輥將過量的膠液涂覆于基材上，然后由刮棒將過量的膠液刮下，并進(jìn)行計(jì)量與整飾。刮棒直徑一般為φ10mm，轉(zhuǎn)速10~20m/min。
????四、非接觸式涂布
????A：擠出涂布
????擠出涂布是將熱熔性樹脂，如PE、EVA、EAA等由擠出機(jī)塑化后由T型模頭擠出涂布在一種基材上，冷卻后制成復(fù)合薄膜的方法。其優(yōu)點(diǎn)：復(fù)合速度快，適合大批量的生產(chǎn)，可自由選擇基材，加工成本低，可任意設(shè)定擠出厚度，可生產(chǎn)特殊的功能膜，減少生產(chǎn)流程。
????B：簾式涂布
????簾式涂布是BMB公司于1995年研發(fā)成功，最初是為水性膠涂布而研發(fā)的，當(dāng)然，如果其它材料涂布參數(shù)和工藝滿足簾式涂布要求，也可以采用這種方法。例如：微膠囊涂布，熱敏材料涂布，噴膜材料涂布，PVDC和其它介質(zhì)涂布都可以采用這種方法涂布。其優(yōu)點(diǎn)如下：靈活、潔凈的涂布應(yīng)用，操作簡便，改變涂布克重簡單（改變泵速），廣泛的涂布克重范圍，較寬的黏度范圍，潔凈的工作環(huán)境，用少量的水即可清洗，材料邊緣沒有厚邊產(chǎn)生。目前該涂布方式已成為高速涂布發(fā)展趨勢。
????涂布技術(shù)雖然在我國已經(jīng)經(jīng)過了十幾年的發(fā)展歷史，但由于涂布機(jī)制造大多屬于單件小批量定做的產(chǎn)品，再加之各個(gè)企業(yè)的生產(chǎn)工藝技術(shù)屬于保密，因此涂布技術(shù)的發(fā)展一直受到限制。當(dāng)然，隨著一些專業(yè)制造涂布復(fù)合設(shè)備廠家的出現(xiàn)和發(fā)展，一些更新型的涂布和刮膠方法也會隨著出現(xiàn)。預(yù)計(jì)在未來幾年，我國涂布技術(shù)將以更快的速度得到發(fā)展。?
